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派勒推出全新纳米砂磨机Maxxmill Largemill 创始湿法研磨新时期


2020-10-17 11:18:26
• Maxxmill Largemill为Dr.Anderl  Heckmair在寰球着名的研磨体系"MoliNex"上做了进一步的研发，并获得专利局同意，全关闭式，短/粗型的研磨腔设计元素，3:9之黄金宰割比例的长度/直径/线速度系数比更佳，高能密度能量输入，用球只有0.05~0.8mm小球作研磨介质的卧式高效研磨机，将低粘轮回研磨物料短光阴内研磨至300~600纳米，粒度散布狭隘而集中，并将其完善合理组合，为你提供更经济的湿法研磨技术。　　Maxxmill Largemill对于于研磨大量量物料来说是最为经济的取舍，绝对于其它研磨设备，设备的投入与磨介的取舍本钱都低。别的，该机型的长处是能够得到比其余机型更细更窄的粒度散布，可以持续处置大批的浆料，还可在研磨进程中随时向预混缸内参加物料组份，而且由于浆料经由研磨室的光阴只有短短的15-25秒，所以能够得到准确的温度节制。　　通过采纳研磨桶构造式高效别离体系SCS（大流量筛筒缝隙式离心别离器uper Canister Separation System）使得即便在十分高的流量下仍能保障研磨珠的保险别离，极大尺寸的筒式离心别离器筛网 SCS 使得流动阻力（即压降）最小； 对于于化装品，制药，食物跟 生化工程行业，派勒 Puhler 可以提供完整用没有锈钢制作的磨机跟 一些特别的安装知足客户的特别须要。　　派勒 超大型卧式砂磨机　　据悉，全新型砂磨机 Maxxmill Largemill主要利用于要求“零净化”及高粘度、高硬度物料的超细研磨及疏散：　　1) Color paste / Color filter / TFT LCD ：R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已胜利地疏散研磨到纳米级，透明度需超过90％，粘度节制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。　　2) Ink-jet Inks：颜料型Ink-jet Inks 已胜利地疏散研磨到纳米级，粘度节制在5 CPS 以下。　　3) CMP (chemical mechanical polish) slurry：半导体晶片研磨所需之研磨液粒径已达纳米级且能知足无金属离子析出要求。　　4) TiOPc (optical contact)：利用于雷射列表机光鼓上所涂布光导体，已研磨疏散到纳米级。　　 5) 纳米级粉体研磨，如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…，可疏散研磨到30 nm。　　 6) 纳米级粉体疏散。如将纳米粉体疏散到高分子，或将纳米级粉体增加到塑胶﹑橡胶等进行疏散。　　7) 医药到达纳米级要求，且需能知足FDA 要求。　　8) 食物增加剂到达纳米级之要求。如β胡萝卜素…，需知足GMP 要求。　　9) 电子化学品到达纳米级需求，且需能知足无金属离子析出问题。　　10)其余特种军工, 航空纳米资料。　　11)如:电子工业﹑光电工业﹑医药生化工业﹑化纤工业﹑建材工业﹑金属工业﹑﹑磁性资料﹑保健品﹑生物制药跟 细胞粉碎﹑氧化物﹑纳米资料﹑医药生化工业﹑肥皂、皮革、电子陶瓷、导电浆料、胶印油墨、纺织品、喷绘油墨、芯片抛光液、细胞粉碎、化装品、喷墨墨水、金属纳米资料、塑料资料、特种纳米航空资料等行业。

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